中硅（山东）硅铝新材料有限公司经过多年的科研攻关，已经攻克气相法（CVD工艺）批量生产高纯超细碳化硅粉的技术障碍，生产出的碳化硅微粉，属3C相β型，纯度达到3N-5N；颗粒均匀，粒径主要分布在450-750nm，形态呈球状；硅碳摩尔比近似1：1；因其在高浓度的氩气和氢气环境下生成，颗粒内部无氧。这种粉料是生产高端碳化硅器件的原料，器件在半导体制造工艺装备中都有广泛应用，如：研磨抛光吸盘、光刻吸盘、检测吸盘、精密运动平台、蚀刻环节的高纯碳化硅部件、封装检测环节中精密运动系统等，其次，光伏硅生产用的碳化硅桨也用到这种高纯超细碳化硅粉。

产品推荐1：碳化硅粉

1.技术参数

3C相ᵝ型，纯度3N-5N，颗粒度450-750nm

2.性能特点 

高纯、高细

3.应用领域

高纯碳化硅器件烧结